Small-angle X-ray scattering from GaN nanowires on Si(111): facet truncation rods, facet roughness and Porod's law
Publicado en:Acta Crystallographica A-Foundation And Advances. 77 (pt 1): 42-53 - 2021-01-01 77(pt 1), DOI: 10.1107/s205327332001548x
Autores: Kaganer VM; Konovalov OV; Fernández-Garrido S
Afiliaciones
Resumen
Small-angle X-ray scattering from GaN nanowires grown on Si(111) is measured in the grazing-incidence geometry and modelled by means of a Monte Carlo simulation that takes into account the orientational distribution of the faceted nanowires and the roughness of their side facets. It is found that the scattering intensity at large wavevectors does not follow Porod's law I(q) ∝ q-4. The intensity depends on the orientation of the side facets with respect to the incident X-ray beam. It is maximum when the scattering vector is directed along a facet normal, reminiscent of surface truncation rod scattering. At large wavevectors q, the scattering intensity is reduced by surface roughness. A root-mean-square roughness of 0.9 nm, which is the height of just 3-4 atomic steps per micrometre-long facet, already gives rise to a strong intensity reduction. open access.
Palabras clave
Indicios de calidad
Impacto bibliométrico. Análisis de la aportación y canal de difusión
El trabajo ha sido publicado en la revista Acta Crystallographica A-Foundation And Advances debido a la progresión y el buen impacto que ha alcanzado en los últimos años, según la agencia Scopus (SJR), se ha convertido en una referencia en su campo. En el año de publicación del trabajo, 2021, se encontraba en la posición , consiguiendo con ello situarse como revista Q1 (Primer Cuartil), en la categoría Inorganic Chemistry. Destacable, igualmente, el hecho de que la Revista está posicionada por encima del Percentil 90.
2025-07-10:
- Scopus: 2
- Europe PMC: 1
Impacto y visibilidad social
Análisis de liderazgo de los autores institucionales
Este trabajo se ha realizado con colaboración internacional, concretamente con investigadores de: France; Germany.
Existe un liderazgo significativo ya que algunos de los autores pertenecientes a la institución aparecen como primer o último firmante, se puede apreciar en el detalle: Último Autor (FERNANDEZ GARRIDO, SERGIO).