{rfName}
A

Indexado en

Licencia y uso

Icono OpenAccess

Citaciones

4

Altmetrics

Article has an altmetric score of 1

Grant support

This work was funded by the Spanish Ministry Ministerio de Economia y Competitividad under the project PLATON (Ref.: TEC2012-31145). The authors acknowledge Dr. M. Holgado for providing the FT-VIS-IR Bruker spectrometer used in this work to measure the spectral reflectance.

Análisis de autorías institucional

Angulo Barrios, CarlosAutor o CoautorCanalejas-Tejero, VictorAutor o Coautor

Compartir

9 de junio de 2019
Publicaciones
>
Artículo
Sí

A top-down approach for fabricating three-dimensional closed hollow nanostructures with permeable thin metal walls

Publicado en:Beilstein Journal Of Nanotechnology. 8 (1): 1231-1237 - 2017-06-08 8(1), DOI: 10.3762/bjnano.8.124

Autores: Barrios, CA; Canalejas-Tejero, V

Afiliaciones

Grupo de Dispositivos Semiconductores del ISOM. Universidad Politécnica de Madrid - Autor o Coautor
Univ Politecn Madrid, Dept Photon & Bioengn TFB, ETSI Telecomunicac, Ciudad Univ S-N, E-28040 Madrid, Spain - Autor o Coautor
Univ Politecn Madrid, ISOM, ETSI Telecomunicac, Ciudad Univ S-N, E-28040 Madrid, Spain - Autor o Coautor

Resumen

We report on a top-down method for the controlled fabrication of three-dimensional (3D), closed, thin-shelled, hollow nanostructures (nanocages) on planar supports. The presented approach is based on conventional microelectronic fabrication processes and exploits the permeability of thin metal films to hollow-out polymer-filled metal nanocages through an oxygen-plasma process. The technique is used for fabricating arrays of cylindrical nanocages made of thin Al shells on silicon substrates. This hollow metal configuration features optical resonance as revealed by spectral reflectance measurements and numerical simulations. The fabricated nanocages were demonstrated as a refractometric sensor with a measured bulk sensitivity of 327 nm/refractive index unit (RIU). The pattern design flexibility and controllability offered by top-down nanofabrication techniques opens the door to the possibility of massive integration of these hollow 3D nano-objects on a chip for applications such as nanocontainers, nanoreactors, nanofluidics, nano-biosensors and photonic devices.

Palabras clave

nanocagesnanocontainersnanofabricationnanophotonicsnanoreactorsoptical devicesplasmonicsLithographyNanocagesNanocontainersNanofabricationNanophotonicsNanoreactorsOptical devicesPlasmonicsTop-down techniques

Indicios de calidad

Impacto bibliométrico. Análisis de la aportación y canal de difusión

El trabajo ha sido publicado en la revista Beilstein Journal Of Nanotechnology debido a la progresión y el buen impacto que ha alcanzado en los últimos años, según la agencia WoS (JCR), se ha convertido en una referencia en su campo. En el año de publicación del trabajo, 2017, se encontraba en la posición 36/146, consiguiendo con ello situarse como revista Q1 (Primer Cuartil), en la categoría Physics, Applied.

2025-08-11:

  • WoS: 1
  • Scopus: 1
  • Europe PMC: 1

Impacto y visibilidad social

Desde la dimensión de Influencia o adopción social, y tomando como base las métricas asociadas a las menciones e interacciones proporcionadas por agencias especializadas en el cálculo de las denominadas “Métricas Alternativas o Sociales”, podemos destacar a fecha 2025-08-11:

  • El uso, desde el ámbito académico evidenciado por el indicador de la agencia Altmetric referido como agregaciones realizadas por el gestor bibliográfico personal Mendeley, nos da un total de: 9.
  • La utilización de esta aportación en marcadores, bifurcaciones de código, añadidos a listas de favoritos para una lectura recurrente, así como visualizaciones generales, indica que alguien está usando la publicación como base de su trabajo actual. Esto puede ser un indicador destacado de futuras citas más formales y académicas. Tal afirmación es avalada por el resultado del indicador “Capture” que arroja un total de: 9 (PlumX).

Con una intencionalidad más de divulgación y orientada a audiencias más generales podemos observar otras puntuaciones más globales como:

  • El Score total de Altmetric: 0.5.
  • El número de menciones en la red social X (antes Twitter): 1 (Altmetric).

Es fundamental presentar evidencias que respalden la plena alineación con los principios y directrices institucionales en torno a la Ciencia Abierta y la Conservación y Difusión del Patrimonio Intelectual. Un claro ejemplo de ello es:

  • El trabajo se ha enviado a una revista cuya política editorial permite la publicación en abierto Open Access.
  • Además, el trabajo se ha enviado a una revista clasificada como Diamante en relación con este tipo de política editorial.

Análisis de liderazgo de los autores institucionales

Existe un liderazgo significativo ya que algunos de los autores pertenecientes a la institución aparecen como primer o último firmante, se puede apreciar en el detalle: Primer Autor (ANGULO BARRIOS, CARLOS) y Último Autor (CANALEJAS TEJERO, VICTOR).