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Impacto en los Objetivos de Desarrollo Sostenible (ODS)

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Alvarez Borea, Miguel AngelAutor o CoautorArcas GAutor o CoautorRuiz MAutor o CoautorLopez JAutor o Coautor

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16 de junio de 2019
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Conferencia Publicada
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Fast uncooled low density FPA of VPD PbSe

Publicado en:Proceedings Of Spie - The International Society For Optical Engineering. 7298 - 2009-09-14 7298(), DOI: 10.1117/12.819092

Autores: Vergara G; Gutiérrez R; Gómez L; Villamayor V; Álvarez M; Torquemada M; Rodrigo M; Verdú M; Sánchez F; Almazán R; Plaza J; Rodríguez P; Catalán I; Fernández D; Heras A; Serra-Graells F; Margarit J; Terés L; Arcas G; Ruiz M; López J

Afiliaciones

CSIC - Instituto de Microelectronica de Barcelona (IMB-CNM) - Autor o Coautor
Instituto Tecnologico la Maranosa - Autor o Coautor
Universidad Politécnica de Madrid - Autor o Coautor

Resumen

Polycrystalline PbSe technology is today an emerging technology thanks to the method for processing monolithic detectors based on a Vapor Phase Deposition (VPD) technique developed at CIDA. The first monolithic device was successfully processed in 2007 (16×16 FPA, 200 μm pitch and Digital Pixel Sensor (DPS) concept). Remarkable progress has been made improving some technological steps and developing tools for processing high signal rates. In this work, low resolution IR images taken up to 20 Kfps with a real uncooled device are shown. These results represent an important milestone and allocate the VPD PbSe technology among the major players within the domain of uncooled IR detectors. It is a photonic detector suitable for being used in low cost IR imagers sensitive in the MWIR band and with frame rates above 10, 000 Hz. The number of applications is therefore huge, some of them specific, such as sensor for Active Protection Systems or low cost seekers. © 2009 SPIE.

Palabras clave

Industry, innovation and infrastructure

Indicios de calidad

Impacto bibliométrico. Análisis de la aportación y canal de difusión

El trabajo ha sido publicado en la revista Proceedings Of Spie - The International Society For Optical Engineering debido a la progresión y el buen impacto que ha alcanzado en los últimos años, según la agencia Scopus (SJR), se ha convertido en una referencia en su campo. En el año de publicación del trabajo, 2009, se encontraba en la posición , consiguiendo con ello situarse como revista Q1 (Primer Cuartil), en la categoría Electrical and Electronic Engineering.

Desde una perspectiva relativa, y atendiendo al indicador del impacto normalizado calculado a partir del Field Citation Ratio (FCR) de la fuente Dimensions, arroja un valor de: 1.4, lo que indica que, de manera comparada con trabajos en la misma disciplina y en el mismo año de publicación, lo ubica como trabajo citado por encima de la media. (fuente consultada: Dimensions Jul 2025)

De manera concreta y atendiendo a las diferentes agencias de indexación, el trabajo ha acumulado, hasta la fecha 2025-07-09, el siguiente número de citas:

  • Scopus: 4
  • Open Alex: 7

Impacto y visibilidad social

Desde la dimensión de Influencia o adopción social, y tomando como base las métricas asociadas a las menciones e interacciones proporcionadas por agencias especializadas en el cálculo de las denominadas “Métricas Alternativas o Sociales”, podemos destacar a fecha 2025-07-09:

  • La utilización de esta aportación en marcadores, bifurcaciones de código, añadidos a listas de favoritos para una lectura recurrente, así como visualizaciones generales, indica que alguien está usando la publicación como base de su trabajo actual. Esto puede ser un indicador destacado de futuras citas más formales y académicas. Tal afirmación es avalada por el resultado del indicador “Capture” que arroja un total de: 12 (PlumX).
Siguiendo con el impacto social del trabajo, es importante enfatizar el hecho de que, por su contenido, puede ser asignado a la línea de interés del ODS 9 - Industry, innovation and infrastructure, con una probabilidad del 64% según el algoritmo mBERT desarrollado por Aurora University.

Análisis de liderazgo de los autores institucionales

Existe un liderazgo significativo ya que algunos de los autores pertenecientes a la institución aparecen como primer o último firmante, se puede apreciar en el detalle: Último Autor (LOPEZ NAVARRO, JUAN MANUEL).