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Del Canizo, CarlosAutor o Coautor

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9 de junio de 2019
Publicaciones
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Artículo

Optimizing phosphorus diffusion for photovoltaic applications: Peak doping, inactive phosphorus, gettering, and contact formation

Publicado en: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 119 (18): 185704- - 2016-05-14 119(18), DOI: 10.1063/1.4949326

Autores:

Wagner, H; Dastgheib-Shirazi, A; Min, B; Morishige, AE; Steyer, M; Hahn, G; del Cañizo, C; Buonassisi, T; Altermatt, PP
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Afiliaciones

Global Photovolta Simulat Grp, Case Postale 1056, CH-1211 Geneva 1, Switzerland - Autor o Coautor
Inst Solar Energy Res Hamelin ISFH, D-31860 Emmerthal, Germany - Autor o Coautor
Leibniz Univ Hannover, Inst Solid State Phys, Dept Solar Energy, D-30167 Hannover, Germany - Autor o Coautor
MIT, 77 Massachusetts Ave, Cambridge, MA 02139 USA - Autor o Coautor
Univ Konstanz, Dept Phys, D-78457 Constance, Germany - Autor o Coautor
Univ Politecn Madrid, Inst Energia Solar, E-28040 Madrid, Spain - Autor o Coautor
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Resumen

The phosphosilicate glass (PSG), fabricated by tube furnace diffusion using a POCl3 source, is widely used as a dopant source in the manufacturing of crystalline silicon solar cells. Although it has been a widely addressed research topic for a long time, there is still lack of a comprehensive understanding of aspects such as the growth, the chemical composition, possible phosphorus depletion, the resulting in-diffused phosphorus profiles, the gettering behavior in silicon, and finally the metal-contact formation. This paper addresses these different aspects simultaneously to further optimize process conditions for photovoltaic applications. To do so, a wide range of experimental data is used and combined with device and process simulations, leading to a more comprehensive interpretation. The results show that slight changes in the PSG process conditions can produce high-quality emitters. It is predicted that PSG processes at 860 degrees C for 60 min in combination with an etch-back and laser doping from PSG layer results in high-quality emitters with a peak dopant density N-peak = 8.0 x 10(18) cm(-3) and a junction depth d(j) = 0.4 mu m, resulting in a sheet resistivity rho(sh) = 380 Omega/sq and a saturation current-density J(0) below 10 fA/cm(2). With these properties, the POCl3 process can compete with ion implantation or doped oxide approaches. Published by AIP Publishing.
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Palabras clave

BoronDevice simulationEmittersGlass layersMulticrystalline siliconPrecipitationRecombinationSiSilicon solar-cellsUnified mobility model

Indicios de calidad

Impacto bibliométrico. Análisis de la aportación y canal de difusión

El trabajo ha sido publicado en la revista JOURNAL OF APPLIED PHYSICS debido a la progresión y el buen impacto que ha alcanzado en los últimos años, según la agencia Scopus (SJR), se ha convertido en una referencia en su campo. En el año de publicación del trabajo, 2016, se encontraba en la posición , consiguiendo con ello situarse como revista Q1 (Primer Cuartil), en la categoría Physics and Astronomy (Miscellaneous).

Desde una perspectiva relativa, y atendiendo al indicador del impacto normalizado calculado a partir de las Citas Mundiales proporcionadas por WoS (ESI, Clarivate), arroja un valor para la normalización de citas relativas a la tasa de citación esperada de: 1.64. Esto indica que, de manera comparada con trabajos en la misma disciplina y en el mismo año de publicación, lo ubica como trabajo citado por encima de la media. (fuente consultada: ESI 13 Nov 2025)

Esta información viene reforzada por otros indicadores del mismo tipo, que aunque dinámicos en el tiempo y dependientes del conjunto de citaciones medias mundiales en el momento de su cálculo, coinciden en posicionar en algún momento al trabajo, entre el 50% más citados dentro de su temática:

  • Media Ponderada del Impacto Normalizado de la agencia Scopus: 2.41 (fuente consultada: FECYT Mar 2025)

De manera concreta y atendiendo a las diferentes agencias de indexación, el trabajo ha acumulado, hasta la fecha 2026-04-24, el siguiente número de citas:

  • WoS: 52
  • Scopus: 53
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Impacto y visibilidad social

Desde la dimensión de Influencia o adopción social, y tomando como base las métricas asociadas a las menciones e interacciones proporcionadas por agencias especializadas en el cálculo de las denominadas “Métricas Alternativas o Sociales”, podemos destacar a fecha 2026-04-24:

  • El uso, desde el ámbito académico evidenciado por el indicador de la agencia Altmetric referido como agregaciones realizadas por el gestor bibliográfico personal Mendeley, nos da un total de: 82.
  • La utilización de esta aportación en marcadores, bifurcaciones de código, añadidos a listas de favoritos para una lectura recurrente, así como visualizaciones generales, indica que alguien está usando la publicación como base de su trabajo actual. Esto puede ser un indicador destacado de futuras citas más formales y académicas. Tal afirmación es avalada por el resultado del indicador “Capture” que arroja un total de: 82 (PlumX).

Con una intencionalidad más de divulgación y orientada a audiencias más generales podemos observar otras puntuaciones más globales como:

  • El Score total de Altmetric: 6.

Es fundamental presentar evidencias que respalden la plena alineación con los principios y directrices institucionales en torno a la Ciencia Abierta y la Conservación y Difusión del Patrimonio Intelectual. Un claro ejemplo de ello es:

  • El trabajo se ha enviado a una revista cuya política editorial permite la publicación en abierto Open Access.
  • Asignación de un Handle/URN como identificador dentro del Depósito en el Repositorio Institucional: https://oa.upm.es/40489/

Como resultado de la publicación del trabajo en el repositorio institucional, se han obtenido datos estadísticos de uso que reflejan su impacto. En términos de difusión, podemos afirmar que, hasta la fecha

  • Visualizaciones: 487
  • Descargas: 1,856
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Análisis de liderazgo de los autores institucionales

Este trabajo se ha realizado con colaboración internacional, concretamente con investigadores de: Germany; Switzerland; United States of America.

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